主讲人：胡建莹；Anze Jeric（miDALIX公司技术总监）

公司：Aresis China |艾锐斯科技（北京）有限公司

时间：4月22日 上午9:00

地点：bat365在线平台网站 离子束会议室

邀请人：王磊 副教授

摘要：

1. 光刻技术及其应用的简单介绍。

2. 超稳定无掩膜纳米光刻机的技术实现：如何将纳米级超高精度激光定位技术引入光刻机的设计实践，如何更好的操控直写光源，其它部分设计与纳米级超高精度激光定位技术的配合。

3. 超稳定无掩膜纳米光刻技术在实际应用中的优势：结构平滑度，定位精准度，套刻精准度，稳定度保证等。

4. 使用超稳定无掩膜纳米光刻技术设备过程中需要注意的关键问题。

5. 其它用户友好设计与该技术的主要应用领域。

6. 典型应用实例展示。

简介：DALI高分辨无掩膜纳米光刻机

主要特点

最小特征结构可小达1μm

对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）

超快不超高精度定位，定位分辨率＜1nm

适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建

用户友好的单应用界面

具备自劢对焦机制不离焦直写模式

内建显微镜可用于样品定位

具备非平表面直写能力

可构建高深宽比结构（可达10:1）

独有的光斑间距调节功能以获得超高平滑度的结构