报告人：王亮 教授
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时间：2019年10月18日10：10~11:30
地点：知新楼C座7楼量子报告厅
邀请人：刘剑 副教授，赵明磊 教授
欢迎所有本科生、研究生和老师的参加！
内容摘要：
在芯片技术的发展过程中，器件的特征尺寸越来越小，为了达到纳米精度要求，光刻技术成为关键。投射光刻技术是目前光刻工艺的主流。随着加工器件的日益精细和尺度不断缩小，这种传统光刻技术也变得越发复杂，而这也导致了器件的光刻成本不断增加。最新的ASML EUV光刻机售价已经达到一亿美元。因此，许多研究机构都在努力寻找可替代的低成本光刻技术。本报告将着重介绍其中的等离子直写技术和纳米压印技术。
报告人简介：
王亮博士于美国普渡大学机械工程系获得博士学位。毕业后参与创立了分子制膜公司，是该公司最早期的20名员工之一。2011年初加入半导体微纳设备制造商科林研发公司担任主任工程师，负责与全球最大的半导体芯片供应商台积电（TSMC）共同开发20nm的芯片工艺。2013年初进入IBM 位于纽约上州的芯片基地，任职技术经理负责14nm芯片的开发。2014年全职回国任中国科学技术大学教授/博士生导师。
王亮博士研究方向为纳米光学和半导体光电器件。兼任安徽省光电子重点实验室副主任，中国光电子协会和中国仪器仪表协会委员。近年有30多篇学术论文发表在国际刊物上，被引用超过600次。申请和获得国际专利20余项，主持国家自然基金重大项目子课题和面上项目，主持科技部重点研发计划课题，参与国家自然科学基金重点项目。同时应美国科学出版社邀请撰写 “Nanomanufacturing” 一章。应邀为多个国际权威杂志的特约审稿人包括Physics Review Letters, Optics letters, Nanotechnology, Optics Express等。
